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該設(shè)備為雙室磁控濺射高真空鍍膜設(shè)備，設(shè)備主體由濺射室（低溫泵+干泵系統(tǒng)）、進(jìn)樣室（分子泵系統(tǒng)）組合構(gòu)成。通過(guò)安裝在進(jìn)樣室的磁耦合傳動(dòng)裝置，在真空狀態(tài)下將進(jìn)樣室內(nèi)的基片傳送至濺射室內(nèi)進(jìn)行鍍膜，鍍膜結(jié)束后又將基片取回進(jìn)樣室，濺射室保持真空狀態(tài)運(yùn)行，大大提高設(shè)備生產(chǎn)效率。

該設(shè)備具有-6Pa級(jí)的真空獲得能力。